光刻机的主要性能指标有几个光刻机性能指标是什么? _光刻机

有网友问光刻机性能指标是什么?今天就给大家讲解一下光刻机性能指标是什么。
【光刻机的主要性能指标有几个光刻机性能指标是什么?】

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光刻机性能指标是什么

第一、光刻机的主要性能指标有：支持基片的尺寸范围，分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等。
第二、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式。光刻的分辨率受受光源衍射的限制，所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制。
第三、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度。
第四、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式。
第五、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域，光源有汞灯，准分子激光器等。
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