有网友问光刻机性能指标是什么?今天就给大家讲解一下光刻机性能指标是什么 。
【光刻机的主要性能指标有几个 光刻机性能指标是什么?】

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光刻机性能指标是什么第一、光刻机的主要性能指标有:支持基片的尺寸范围 , 分辨率、对准精度、曝光方式、光源波长、光强均匀性、生产效率等 。
第二、分辨率是对光刻工艺加工可以达到的最细线条精度的一种描述方式 。光刻的分辨率受受光源衍射的限制 , 所以与光源、光刻系统、光刻胶和工艺等各方面的限制 。
第三、对准精度是在多层曝光时层间图案的定位精度 。
第四、曝光方式分为接触接近式、投影式和直写式 。
第五、曝光光源波长分为紫外、深紫外和极紫外区域 , 光源有汞灯 , 准分子激光器等 。
以上就是给各位带来的关于光刻机性能指标是什么的全部内容了 。
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